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西瓜地膜覆蓋暖坑早熟栽培技術

   日期:2016-08-26     來源:聚農網    作者:jn720.com    瀏覽:156    
近年來生產實踐證明,采用地膜覆蓋暖坑搶早直播西瓜的新技術是獲得早熟、高產的重要途徑。它是在適期直播地膜覆蓋的基礎上,經過研究改進而創造出來的簡易有效的新方法,其優點:一是提高地溫,改善幼苗生長的小氣候;二是提前播種,比一般直播提前10~15天;三是早成熟,提早上市,效益顯著。  

  一、暖坑的作法  

  (一)挖播種坑  

  在整好的播種壟上,按株距挖播種坑。坑深15~18cm,然后往坑內施入發酵好的有機肥0.5~1.0公斤,土糞混勻,作成深10~12cm,寬15~18cm的淺坑。  

  (二)播種、覆土  

  坑內澆足底水,水滲完后,播2~3粒已浸過的或催芽的種子,播種后覆2~3cm厚的濕潤細土。  

  (三)覆膜  

  播完后立即蓋上地膜,地膜要平、直、緊的蓋在壟上,每個播種坑就形成單個地下溫室。在陽光照射下,不僅提高地溫,也明顯地提高了播種小坑的溫度,形成光能加熱的溫暖小坑。  

  二、品種選擇  

  采用此法可提早成熟,若再選用早熟品種,其早熟效果更好。既可采用早熟品種,也可采用中晚熟品種,都比一般地膜覆蓋成熟早。  

  三、適期播種  

  通常適宜的播期是比一般地膜覆蓋提早10~15天,即在終霜前10~15天播種為適期。具體播種時間應結合當地氣候條件而定。  

  四、破膜放苗  

  待晚霜已過,氣溫穩定升高,要及時破膜放苗,把已有2-4片真葉的秧苗從暖坑拿出膜外,用手將地下坑稍整平,用濕土把根莖部與膜口蓋嚴壓實,讓瓜苗在露天生長,根系仍在地膜保護下生長。  

  五、防低溫凍苗  

  早春氣溫低,播種后要時刻注意天氣變化,預防低溫冷害和凍害。若降溫,可在膜上撒一層干細土或用草蓋住,等天氣轉暖時再將膜上的細土和或草等覆蓋物除凈。  

  六、防高溫烤苗  

  早春氣溫多變,既要防止凍害,也要防高溫烤苗。當外界氣溫達30℃時,坑內溫度達40℃左右。在這種高溫的條件下必須放風降溫,嚴防高溫烤苗。放風時在距坑內小苗北側3~5cm處,把地膜扎手指粗的孔眼2-3個,促使地膜內通風換氣。放風宜早,最好在上午9~10時進行,嚴防中午突然放大風閃苗。通常,在氣溫25℃以下又是多云天氣,可不放風。其它管理同地膜覆蓋栽培即可。  
 
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